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深圳市科技創(chuàng)新委員會關于發(fā)布2023年度集成電路專項資助計劃項目申請指南
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深圳市科技創(chuàng)新委員會2023年度集成電路專項資助計劃項目申請指南

一、申請內(nèi)容

(一)對集成電路設計企業(yè)流片支持

1.多項目晶圓直接流片資助;

2.首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片資助。

(二)對集成電路設計企業(yè)購買IP(硅知識產(chǎn)權)支持

對于企業(yè)購買IP開展高端芯片研發(fā),給予IP購買費用資助。

(三)對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

對于從事集成電路EDA設計工具研發(fā)的企業(yè),給予EDA研發(fā)費用資助。

二、設定依據(jù)

(一)《深圳市人民政府關于印發(fā)進一步推動集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展行動計劃(2019-2023年)的通知》(深府〔2019〕28號);

(二)《深圳市人民政府辦公廳關于印發(fā)加快集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展若干措施的通知》(深府辦規(guī)〔2019〕4號)。

(三)《深圳市科技計劃項目管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2019〕1號;

(四)《深圳市科技研發(fā)資金管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2019〕2號);

(五)《深圳市高新技術企業(yè)培育資助管理辦法》(深科技創(chuàng)新規(guī)〔2021〕5號)。

三、支持強度與方式

支持強度:有數(shù)量限制,受科技研發(fā)資金年度總額控制。按照審計結果確定資助額度,本批次資助資金納入2023年度市級財政預算安排。

(一)對集成電路設計企業(yè)流片支持

1.對于使用多項目晶圓進行研發(fā)的企業(yè),給予2021年多項目晶圓直接流片費用最高70%、年度總額不超過300萬元的資助;

2.對于首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片的企業(yè),給予2021年首次完成全掩膜工程產(chǎn)品流片費用最高50%、年度總額不超過500萬元的資助。

(二)對集成電路設計企業(yè)購買IP支持

對于購買IP開展高端芯片研發(fā)的企業(yè),給予2021年IP購買實際支付費用最高20%的資助,單個企業(yè)每年總額不超過500萬元。

(三)對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

對于從事集成電路EDA設計工具研發(fā)的企業(yè),給予2021年EDA研發(fā)費用實際支出最高30%的研發(fā)資助,總額不超過3000萬元。

支持方式:事后資助。

四、申請條件

(一)基本條件:

1.申請單位應當是在深圳市(含深汕特別合作區(qū),下同)依法注冊,具備法人資格的企業(yè);

2.申請單位應在深圳具備研發(fā)的場地、設施、人員等;

3.申請單位未被列入深圳市科研誠信異常名錄和超期未申請驗收名單;

4.項目申請單位不存在未在規(guī)定期限內(nèi)退回財政資金的情形;

5.申請單位同一項目不得向市有關部門進行多頭申請和重復申請;

(二)專項條件:

1.對集成電路設計企業(yè)流片支持

(1)申請單位應為集成電路設計企業(yè);

(2)申請單位應為流片產(chǎn)品的知識產(chǎn)權所有方;

(3) 項目未申請市發(fā)展改革委集成電路設計流片扶持計劃。

2.對集成電路設計企業(yè)購買IP支持

(1)申請單位應為集成電路設計企業(yè);

(2)申請單位應為IP授權協(xié)議中的知識產(chǎn)權最終被授予方,且不再轉售予第三方;

(3)IP購買實際支付費用應為IP授權費用(不含版稅費用)。

3.對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

(1)申請單位應為從事集成電路EDA設計工具研發(fā)企業(yè);

(2)研究開發(fā)活動應符合研發(fā)費用加計扣除政策范疇,且2021年度已向稅務部門辦理加計扣除申報。

五、申請材料

(一)基本材料:

1.2021年度納稅證明復印件;

2.經(jīng)深圳市注冊會計師協(xié)會備案的含有防偽標識封面的2021年度研發(fā)投入專項審計報告復印件(報告應包含資產(chǎn)負債表、利潤表、現(xiàn)金流量表等財務報表及附注、集成電路設計(或EDA設計工具研發(fā))的研發(fā)場地、研發(fā)團隊、軟硬件設施、研究開發(fā)費用及經(jīng)費來源等內(nèi)容),研究開發(fā)費用計算范圍和計算比例按照《關于完善研究開發(fā)費用稅前加計扣除政策的通知》(財稅〔2015〕119號)、《國家稅務總局關于研發(fā)費用稅前加計扣除歸集范圍有關問題的公告》(國家稅務總局公告2017年第40號)等政策文件的規(guī)定執(zhí)行;

3.知識產(chǎn)權合規(guī)性聲明原件;

4.科研誠信承諾書原件;

5.可以選擇提供集成電路設計(或EDA設計工具研發(fā))相關的知識產(chǎn)權證(例如專利和軟件著作權等)證明材料復印件。

(二)專項材料:

1.對集成電路設計企業(yè)流片支持

(1)深圳市集成電路專項資助計劃流片及IP資助項目申請書原件;

(2)集成電路制造企業(yè)出具的2021年度產(chǎn)品加工發(fā)票及相應的加工訂單、銀行支付憑證等復印件,境外加工的集成電路產(chǎn)品需提供相應的清關憑證或本產(chǎn)品的完稅證明復印件;

(3)通過專業(yè)服務機構流片的申請單位需另外提供專業(yè)服務機構與申請單位簽署的合同、發(fā)票、銀行支付憑證等復印件;

(加工訂單、加工發(fā)票、銀行支付憑證、清關憑證/完稅證明應依次排序,按照每一個產(chǎn)品單獨、有序分開。英文合同/訂單請?zhí)峁┲形姆g件)

(4)產(chǎn)品版圖縮略圖A4版彩色打印件;

(5)首次全掩膜產(chǎn)品流片需提供該產(chǎn)品布圖設計登記證書復印件。

2.對集成電路設計企業(yè)購買IP支持

(1)深圳市集成電路專項資助計劃流片及IP資助項目申請書原件;

(2)2021年度購買IP的發(fā)票及相應的合同、銀行支付憑證等復印件,購買進口IP的另需提供相應的完稅證明復印件;

(3)合同不含IP原廠授權條款的,需提供申報企業(yè)與IP原廠直接簽署的IP授權協(xié)議復印件。

(合同/授權協(xié)議、發(fā)票、銀行支付憑證、完稅證明應依次排序,按照每一個IP單獨、有序分開。英文合同/授權協(xié)議請?zhí)峁┲形姆g件)

3.對集成電路EDA設計工具研發(fā)支持

深圳市集成電路專項資助計劃EDA設計工具研究開發(fā)資助項目申請書原件。

六、申請表格

本指南規(guī)定提交的表格,申請單位登錄深圳市科技業(yè)務管理系統(tǒng)在線填報。

七、受理機關

(一)受理機關:深圳市科技創(chuàng)新委員會。

(二)受理時間:

網(wǎng)絡填報受理時間:2022年5月6日-2022年6月17日(截止24:00)。

申請單位在網(wǎng)上填報受理時限內(nèi)登錄深圳市科技業(yè)務管理系統(tǒng)在線填報《深圳市集成電路專項資助計劃項目申請書》,并在科技業(yè)務系統(tǒng)中上傳其他申請材料的電子版掃描件(復印件需加蓋申請單位公章后掃描)后提交審核(系統(tǒng)受理狀態(tài)為“待窗口受理”)。

(三)書面材料提交時間:項目入庫后提交紙質書面材料,具體提交時間和方式另行通知。

八、決定機關

深圳市科技創(chuàng)新委員會。


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